高周波基板
伸光写真のセラミック基板について
プリント基板メーカー伸光写真サービス㈱の笠松です。
今回は増え続けるセラミック基板についてご紹介したいと思います。
セラミッス基板は1930年代から製作されており、80年の歴史の中で
いろいろな膜付の方法や膜付金属が開発されて今日に至っています。
その中の膜付方法で伸光写真が開発してきたのが
膜付構成を
CrNi＋Cu＋Ni＋Auとして薄膜技術とメッキ技術を融合させ、弱電
から強電まで幅広くカバー出来るセラミック基板です。
またセラミック素材の特性である放熱性・熱伝導率・誘電率等を
十分に引き出すセラミック基板でもあります。
材料はアルミナAl2O3
・窒化アルミ・窒化ケイ素・誘電体
セラミックスなどで、製造法としてはサブトラクティブ法を利用
してます。
セラミックとは焼き物（陶器）の総称ですが、面白いことにアルミナ
の記号はAl2O3 アルミ金属の酸化した皮膜も同じAl2O3記号なん
です。記号だけだと同じものですが、金属被膜で出来たAl2O3は
セラミックと言わないのがわかりますね。
伸光写真のセラミック基板製造実績としては両面ファインライン小径
スルホール対応のHIC基板、フィルター・サブマウント・アンテナ・
送受信基板の高周波基板、サブマウント・接合用・パッケージ用など
の光通信用基板、LED用基板、3D立体チップ基板などもあります。
