フォトマスクは露光する際に使用される原板のことで、様々な電子回路などのパターン形成時に使用されております。弊社はフォトマスクのメーカーとして40年以上にわたる製造技術を生かし、最新のレーザー装置を利用して描画しております。プリント基板用マスク、電子精密部品加工用メタルエッチング用マスク、ガラス薄膜エッチング用マスクなど、幅広く提供しております。

フォトマスク製品例

フォトマスクの仕様

• 最大描画サイズ　690mm×690mm（これより大きいサイズも編集により可能です）
• 描画線幅　5μ、12.7μ、50μ、80μ（描画サイズなどにより変わります）

フォトマスクの用途

• 各種プリント基板用フォトマスク
• IC、ハイブリットIC用フォトマスク
• メタルエッチング用マスク
• 工学用目盛り、スケール用マスク
• 厚膜、薄膜基板用マスク
• シルクスクリーン用マスク
• ネームプレート用マスク

フォトマスク使用材料

フィルム、ガラス（エマルジョン、クロム）