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工業用精密マスク
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工業用精密マスク特長

現在はプリント基板の製造が中心の当社ですが、その淵源は、工業用精密写真の製造です。創立以来培った長年の技術を生かし、さまざまな工業用マスクを製造しております。

伸光写真サービスの工業用精密マスク

現在の精密写真は従来の銀塩カメラによる撮影からCAD入力・レーザープロッター出力による作画方式に変わりました。
当社は、フォトマスクのメーカーとして長年にわたる技術を生かし、プリント基板用マスク、電子精密部品加工用メタルエッチング用マスク、ガラス薄膜エッチング用マスクなど、幅広く提供しております。

  • 最大描画サイズ 600×900o(これより大きいサイズも編集により可能です)
  • 描画線幅 5μ、12.7μ、50μ、80μ(描画サイズなどにより変わります)

使用用途

マスク作成から製造、販売しております。お気軽にご相談ください。

  • 各種プリント基板用フォトマスク
  • IC、ハイブリットIC用フォトマスク
  • メタルエッチング用マスク
  • 工学用目盛り、スケール用マスク
  • 厚膜、薄膜基板用マスク
  • シルクスクリーン用マスク
  • ネームプレート用マスク

※ 使用材料 : フィルム、ガラス(エマルジョン、クロム)

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